W 2017 roku odbędzie się ósma edycja tej konferencji – jak zawsze podczas SPIE Optical Metrology Congress, który będzie obradował w Monachium od 26 do 29 czerwca 2016.
Termin zgłaszania abstraktów upływa 15 stycznia 2017. Szczegóły, w tym link do zgłaszania abstraktów, dostępne są tutaj.
Podczas tej edycji specjalna sesja zostanie poświęcona prezentacji metod, instrumentów i instalacji, które będa wykorzystywane przez tworzoną Europejska Infrastrukturę Badawczą dla Dziedzictwa Kulturowego (ERIHS)